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NSC-3000 (A) 全自动磁控溅射系统

NSC-3000 (A) 全自动磁控溅射系统

  • NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(最高可加热到700度)功能,最大到6"旋转平台,最大可支持到3个偏轴平面磁控管。

产品详情

NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(最高可加热到700度)功能,最大到6"旋转平台,最大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NSC-3000(A)带有14”立方形铝质腔体,32”的磁控管,DC直流和RF射频电源。 在选配方面,我们提供不锈钢腔体,260 l/s涡轮分子泵,额外的磁控管和衬底加热功能。

NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统产品特点:

  • 不锈钢,铝质腔体或钟罩式耐热玻璃

  • 70或250l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵

  • 13.56MHz300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源

  • 晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率

  • 带观察视窗的腔门易于上下载片

  • 基于LabView软件的PC计算机控制

  • 带密码保护功能的多级访问控制

  • 完全的安全联锁功能

  • 预真空锁以及自动晶圆片上/下载片

NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统选配项:

  • 不锈钢腔体

  • RFDC溅射

  • RFDC偏压(1000V

  • 样品台可加热到700°C

  • 膜厚监测仪

  • 基片的RF射频等离子清洗

NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统应用:

  • 晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆

  • 光学以及ITO涂覆

  • 带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆

  • RF射频等离子放电的反应溅射