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MicroChem PMGI & LOR Lift-off光刻胶

MicroChem PMGI & LOR Lift-off光刻胶

  • PMGI&LOR光刻胶可在数据存储、无线IC和MEMS等各种应用中实现高产量，金属剥离工艺。 在双层光刻胶层使用时，PMGI和LOR将工艺范围扩展到单层光刻胶层所能达到的范围之外，包括高分辨率金属化(< 0.25µm),以及很厚(> 4µm)金属化。这些独特的性能适用于多种材料，可满足客户的各种需要。

产品详情

MicroChem ，PMGI & LOR Lift-off，光刻胶(图1)


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