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  • Allresist 紫外光刻胶 AR-N 4600 (Atlas 46)
Allresist 紫外光刻胶 AR-N 4600 (Atlas 46)

Allresist 紫外光刻胶 AR-N 4600 (Atlas 46)

  • 特点:• 紫外负胶(厚胶),适用于 LIGA 及 MEMS应用• 涂胶厚度 10μm@1000rpm, 可提供更高厚度(200μm)• SX AR-N 4600-10 : 结构稳定性好、重复性好,厚度可达几百 微米,适用于永久保留胶体结构的应用• SX AR-N 4650-10 : 容易去胶,适合于电铸工艺

产品详情

特点:

• 紫外负胶(厚胶),适用于 LIGA 及 MEMS应用

• 涂胶厚度 10μm@1000rpm, 可提供更高厚度(200μm)

• SX AR-N 4600-10 : 结构稳定性好、重复性好,厚度可达几百

微米,适用于永久保留胶体结构的应用

• SX AR-N 4650-10 : 容易去胶,适合于电铸工艺