特点：
• 用于高灵敏度电子束曝光、混合曝光等
• 感光波段：e-beam、deep UV(248 nm)
• 紫外曝光波段：
负胶：248nm~265nm & 290nm~330nm
• 化学放大胶，高灵敏度
• 良好的耐干法刻蚀能力
联系人：林经理
电 话：0755-29852340，29852450
手 机：13510161192
邮 箱：arlen.lin@szkesda.com
地 址：深圳市光明区公明街道水贝北路大新华达工业园3号203
