特点:
• 耐酸碱保护胶
• 不含光敏物质,无需黄光室
• 在40% KOH或50% HF酸中可长时间稳定
• 通过双层工艺可实现正性(AR-P 3250) 或负性(AR-N 4400-05/10)光刻工艺
旋涂曲线:
应用实例:
联系人:林经理
电 话:0755-29852340,29852450
手 机:13510161192
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