特点：
• 耐酸碱保护胶
• 不含光敏物质，无需黄光室
• 在40% KOH或50% HF酸中可长时间稳定
• 通过双层工艺可实现正性(AR-P 3250) 或负性(AR-N 4400-05/10)光刻工艺
旋涂曲线：
应用实例：
联系人：林经理
电 话：0755-29852340，29852450
手 机：13510161192
邮 箱：arlen.lin@szkesda.com
地 址：深圳市光明区公明街道水贝北路大新华达工业园3号203
